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半导体设备支出正进入一个新的增长周期，其驱动因素包括地缘政治、主权战略、人工智能需求和技术路线图。尽管终端市场需求不均衡，但晶圆制造设备的支出预计仍将持续增长，这主要得益于先进逻辑、DRAM/HBM、NAND闪存回收和先进封装等领域设备密集度的提高和产能扩张。
2025年晶圆制造设备收入达到1290亿美元，预计2026年将达到约1620亿美元，同比增长25.4%，到2031年将接近2200亿美元，这意味着2025年至2031年的复合年增长率约为9%。服务和支持收入也持续增长，这得益于不断扩大的设备装机量、晶圆厂自动化需求以及日益复杂的工艺流程。市场仍由ASML、Applied Materials、Lam Research、东京电子和KLA等老牌晶圆制造设备制造商主导。
按设备技术划分，晶圆制造设备的增长主要由图形化、沉积、蚀刻清洗以及计量检测等技术驱动，这些技术共同构成了晶圆制造设备支出的核心。按器件应用划分，先进逻辑器件成为主要的增长引擎，而DRAM/HBM、NAND闪存回收和先进封装技术则继续影响着晶圆制造设备资本支出的优先顺序。
晶圆制造设备供应链反映了区域需求和战略控制
晶圆制造设备供应链正日益区域化。总部、制造基地和发货目的地呈现出不同的地理分布模式，这反映了半导体主权、本地化战略以及亚洲主导的晶圆制造投资。
到2025年，中国大陆将占全球晶圆制造设备需求的34.5%。尽管决策权仍然集中在北美、欧洲、中东和非洲地区以及日本，但在成熟节点需求和国产化势头的推动下，中国国内晶圆制造设备生态系统正日益凸显。
子系统、模块和组件也变得越来越具有战略意义。获取关键的SMC供应商、服务能力、翻新工具以及进行有针对性的并购，正在重塑先进封装、晶圆键合、计量和检测、光刻替代方案以及人工智能驱动的工艺优化等领域的竞争格局。
复杂的器件路线图重塑了晶圆制造设备平台的要求
逻辑器件、DRAM、NAND闪存和先进封装等领域的器件架构日趋复杂，直接改变了晶圆制造设备的要求。从GAA/纳米片逻辑和背面供电，到EUV光刻、HBM集成、3D NAND闪存微缩、晶圆键合以及新型材料的应用，每一项技术革新都增加了对更先进工艺控制的需求。
晶圆制造设备供应商不再仅仅提供独立的工艺工具。他们正在开发更加集成化的工艺解决方案，其平台和模块能够满足沉积、刻蚀、图案化、离子注入、退火、清洗、化学机械抛光、计量和检测以及键合等方面的更严格要求。
随着工艺条件日益苛刻，设备形态正成为关键的差异化因素。湿法和干法工艺、单片晶圆和批量系统、压力范围、温度范围以及衬底类型，都会影响晶圆制造设备平台的发展方向，以支持下一代半导体制造。
WFE 增长势头强劲，经济衰退推迟至 2028 年
2026年第二季度的市场预测更新改变了市场格局：WFE（晶圆厂前端）市场已超越复苏阶段，进入由人工智能驱动的更强劲的扩张阶段。受DRAM/HBM、先进逻辑芯片、NAND闪存升级和先进封装技术的推动，2026年市场规模预测上调至约1620亿美元。下一次市场调整预计将在2029年出现，而非此前预测的2028年。
短期前景依然不均衡。2026年第一季度表现强劲，预计第二季度将保持总体稳定，而2026年的大部分增长势头仍将集中在下半年。关键制约因素在于执行力从需求侧转向供应侧，洁净室可用性、工具交付周期、安装能力、分包商准备情况以及现场服务资源等因素将影响出货转化率。
技术组合正成为关键的差异化因素。人工智能相关的投资正在推动对极紫外/深紫外光刻、沉积、刻蚀、化学机械抛光/减薄、计量和检测以及晶圆键合的需求。ASML在光刻领域仍占据主导地位；应用材料公司和Lam Research受益于沉积和刻蚀技术的快速发展；KLA受益于工艺控制方面的需求；而EV集团、SUSS MicroTec和东京电子则受益于先进封装和键合技术的增长。
（来源：编译自yole ）
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